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Effect of the nitrogen-argon gas mixtures on the superconductivity properties of reactively sputtered molybdenum nitride thin films

机译:氮 - 氩气混合物对超导电性的影响   反应溅射氮化钼薄膜的性能

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摘要

We report on the superconducting properties of molybdenum nitride thin filmsgrown by reactive DC sputtering at room temperature with a N2:Ar mixture. Thinfilms grown using 5 % N2 concentration display Tc = 8 K, which is graduallyreduced and abruptly disappears for 40 % N2 concentration. This suppression canbe associated with changes in the nitrogen stoichiometry from Mo2N to MoN. Ourresults provide an effective and simple path to prepare Mo2Nx thin films withtunable Tc, which is relevant for the investigation of the fundamentalproperties and for technological applications.
机译:我们报告了在室温下使用N2:Ar混合物通过反应性直流溅射生长的氮化钼薄膜的超导性能。使用5%N2浓度生长的薄膜显示Tc = 8 K,对于40%N2浓度,薄膜逐渐减小并突然消失。这种抑制作用可能与氮化学计量从Mo2N到MoN的变化有关。我们的结果为制备具有可调Tc的Mo2Nx薄膜提供了一条有效而简单的途径,这与基础性能的研究和技术应用有关。

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